半导体过滤

我们的高科技解决方案可广泛应用于半导体行业的各种应用，如工艺气体过滤、微量水分检测、超纯水以及湿式蚀刻和清洁。我们开发和制造的化学品过滤和纯化产品是几十年服务于半导体和相关行业的结晶。

我们和供应商以及最终用户之间建立了合作伙伴关系，以提供卓越的化学机械抛光（CMP）过滤解决方案，并始终致力于开发更高效、更经济的产品，以满足各种研磨液和相关应用的需要。半导体制造商选择颇尔过滤和纯化产品用于其工艺，以实现功能、质量、节省成本和提高生产效率。

一种清除和最少化有害分子污染物的方法，对于传统颗粒过滤方法无法企及的半导体制造领域而言，其具有重要意义。颇尔的大容量纯化系统可去除分子杂质，且有很长的使用寿命。颇尔过滤器在分子拦截、渗透性、纯净度和耐用性方面性能卓越。半导体行业应用包括集成电路、数据存储、平板显示和光伏产品。

我们遵循EPA 2010/15 PFOA自主削减计划，含氟聚合物生产过程中不再使用PFOA（全氟辛酸铵）作为加工辅助材料。此计划已在全球范围内得到了含氟聚合物制造巨头及其客户的认可。“不含PFOA”一词表示过滤器材料配方中不含微量成分PFOA。用于湿式蚀刻和清洁应用的所有含氟聚合物过滤器组件均不含PFOA材料。

异丙醇（IPA）是一种半导体行业中常用的晶圆干燥化学品。随着半导体器件尺寸的变小，IPA中的污染物控制水平日趋严格。过滤对于减少污染物起到重要作用，为了符合这一要求，我们将致力于为市场提供最先进的技术。通过IPA清除的颗粒尺寸要求更小，以达到与污染物控制水平保持一致。对IPA过滤器的另一个重要要求是使过滤器自身的释放物最少化。聚四氟乙烯（PTFE）薄膜过滤器取代了高密度聚乙烯（HDPE）薄膜过滤器，用途更广。

我们用于半导体应用的纯化和过滤技术具有 先进的纳米拦截功能。如需更多信息，可点击这里查看订购信息或和颇尔专家进行交流。