数字IC笔记

一个完整的单元库是由不同的功能电路所组成，在芯片应用中可分为三类：

在逻辑综合产生门级网表和物理设计做布局布线的过程中需要两个重要的库文件，就是物理库(lef)和时序库(lib)

1.物理库LEF文件 LEF(Library Exchange Format)是版图级的抽象文件，主要用于布局和布线。目前普遍使用的是由Candence开发的LEF文件格式，以lef作为库文件后缀，采用ASCII格式描述，易于阅读和维护。文件很大，为方便管理和维护，一般分为技术LEF文件和单元LEF文件。

2.时序库liberty文件 时序库是描述单元时序信息的重要文件。它定义了每个单元不同输入情况下各输入端口到输出端口信号的传播延时，工具通过仿真不同工艺角条件下电路的工作状态得到相应的时序数据，再将数据转换成工具可以事变的库交换文件用于芯片的时序分析。 liberity是目前业界广泛使用的时序库文件格式，由Synopsys公司开发定义，以lib作为扩展名。

设计约束文件SDC(Synopsys design constraints)文件基于TCL格式。SDC对电路的时序、功耗、面积等进行约束，从而使芯片满足设计要求的规范。

工艺技术文件(technology file) 是晶圆代工厂提供给设计者用于后端版图设计的技术文件，同时它也是用于与EDA工具交互工艺信息的常用文件。一般包含图形定义及显示信息、互连线工艺信息和通孔工艺信息等。互连线工艺信息包含的内容非常多，如金属最高加工层数、方向、最小线宽、最小线间距、电容电阻大小、天线效应大小、金属最大电流等。通孔信息包括各层通孔的种类、通孔电阻电容大小、连接关系等。

init design 为什么要先导入tech.lef，之后才是lef? 因为tech lef中有各种site row的定义。如果这个定义没有先读入，标准单元，ip的lef中有声明cell是要放在哪种site上的声明就会报error,所以要先定义再引用。