半导体材料(第三版) mobi epub pdf txt 电子书 下载 2024 您所在的位置:网站首页 半导体相关的书 半导体材料(第三版) mobi epub pdf txt 电子书 下载 2024

半导体材料(第三版) mobi epub pdf txt 电子书 下载 2024

2024-03-04 01:39| 来源: 网络整理| 查看: 265

编辑推荐 适读人群 :电子科学与技术、光信息科学与技术、光学、电子学信息类等专业中的非光电子技术专业方向学生   ★深浅适度,照顾面广,语言简练,概念清楚,理论联系实际。  ★从主要半导体材料硅入手,全面介绍半导体材料的制备特性。  ★概括了主要半导体材料的发展状况以及今后的发展方向和可行性。  ★语言精练,数学要求低,章节紧凑,系统性强。  ★教材内容与科研工作结合紧密。 内容简介   《半导体材料(第三版)》是为大学本科与半导体相关的专业编写的教材,介绍了主要半导体材料硅、砷化镓等制备的基本原理和工艺,以及特性的控制等。全书共13章:第1章为硅和锗的化学制备;第2章为区熔提纯;第3章为晶体生长;第4章为硅、锗晶体中的杂质和缺陷;第5章为硅外延生长;第6章为Ⅲ-v族化合物半导体;第7章为Ⅲ-v族化合物半导体的外延生长;第8章为Ⅲ-V族多元化合物半导体;第9章为Ⅱ,Ⅵ族化合物半导体;第10章为低维结构半导体材料;第II章为氧化物半导体材料;第12章为照明半导体材料;第13章为其他半导体材料。  《半导体材料(第三版)》也可以作为从事与半导体相关研究工作的科研人员和相关专业研究生的参考书。 内页插图 目录 第三版前言前言绪论

第1章 硅和锗的化学制备1-1 硅和锗的物理化学性质1-2 高纯硅的制备1-3 锗的富集与提纯

第2章 区熔提纯2-1 分凝现象与分凝系数2-2 区熔原理2-3 锗的区熔提纯

第3章 晶体生长3-1 晶体生长理论基础3-2 熔体的晶体生长3-3 硅、锗单晶生长

第4章 硅、锗晶体中的杂质和缺陷4-1 硅、锗晶体中杂质的性质4-2 硅、锗晶体的掺杂4-3 硅、锗单晶的位错4-4 硅单晶中的微缺陷

第5章 硅外延生长5-1 外延生长概述5-2 硅衬底制备5-3 硅的气相外延生长5-4 硅外延层电阻率的控制5-5 硅外延层的缺陷5-6 硅的异质外延

第6章 Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体6-1 Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体的特性6-2 砷化镓单晶的生长方法6-3 砷化镓单晶中杂质的控制6-4 砷化镓单晶的完整性6-5 其他Ⅲ-Ⅴ族化合物的制备

第7章 Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体的外延生长7-1 气相外延生长(VPE)7-2 金属有机物气相外延生长(MOVPE)7-3 液相外延生长(LPE)7-4 分子束外延生长(MBE)7-5 化学柬外延生长(CBE)7-6 其他外延生长技术

第8章 Ⅲ-Ⅴ族多元化合物半导体8-1 异质结与晶格失配8-2 GaAlAs外延生长8-3 InGaN外延生长8-4 InGaAsP外延生长8-5 超晶格与量子阱8-6 应变超晶格8-7 能带工程

第9章 Ⅱ-Ⅵ族化合物半导体9-1 Ⅱ-Ⅵ族化合物单晶材料的制备9-2 Ⅱ-Ⅵ族化合物的点缺陷与自补偿现象9-3 Ⅱ-Ⅵ族多元化合物材料9-4 Ⅱ-Ⅵ族超晶格材料

第10章 低维结构半导体材料10-1 低维结构半导体材料的基本特性10-2 低维结构半导体材料的制备10-3 低维结构半导体材料的现状及未来

第11章 氧化物半导体材料11-1 氧化物半导体材料的制备11-2 氧化物半导体材料的电学性质11-3 氧化物半导体材料的应用

第12章 照明半导体材料12-1 LED的基本结构12-2 外延生长GaN衬底材料的选择12-3 外延生长的发展趋势12-4 外延片结构改进

第13章 其他半导体材料13-1 窄带隙半导体13-2 黄铜矿型半导体13-3 非晶态半导体材料13-4 有机半导体材料参考文献 半导体材料(第三版) 下载 mobi epub pdf txt 电子书 格式



【本文地址】

公司简介

联系我们

今日新闻

    推荐新闻

    专题文章
      CopyRight 2018-2019 实验室设备网 版权所有