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半导体国产化跟踪报告:从全球成熟工艺占比 看本土半导体设备发展

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以全球视角来看,成熟工艺仍是主流。根据TrendForce 集邦咨询显示,2021 年晶圆代工厂中,成熟制程仍占据76%的市场份额。2022 年全球晶圆代工厂年增产能约14%,其中十二英寸新增产能当中约有65%为成熟制程(28nm 及以上)。    ①以台积电为视角:成熟工艺约占产能的64%,占销售额的34%。从现有产能分布来看,预计目前台积电产能为120 万片/月(12 英寸),16nm/7nm/5nm 的每月产能约为13.7/17.8/12.0 万片,先进制程产能约为43.5 万片/月,占比36%。从未来产能扩张来看,台积电在2021 年技术峰会中表示,到2025 年其成熟和专业节点的产能将扩大50%,包括在台南、高雄、日本和南京建设大量晶圆厂。    ②以联电为视角:放弃先进制程,专注成熟工艺。从现有产能分布来看,联电在2018 年宣布不再投资12nm 以下的先进制程,专注在成熟工艺扩大市场。预计目前联电产能为40 万片/月(12 英寸),全部集中在成熟工艺。从未来产能扩张来看,联电于2021 年Q1 的交流会中表示,投入约36 亿美元扩大28nm 芯片产能。    ③以格芯为视角:成熟工艺产能约占83%,退出10nm 及以下先进制程。从现有产能分布来看,格芯于2018 年宣布退出10nm 及以下的先进制程的研发,目前拥有的先进制程为12nm。预计目前格芯产能为20 万片/月(12 英寸),拥有先进制程的纽约fab8 约占17%。从未来产能扩张来看,格芯于2021 年6 月宣布在新加坡投资约40 亿美元,建设新300nm 晶圆工厂和扩大产能,主要在汽车芯片领域。    ④全球视角:世界三大晶圆代工巨头(台积电、联电、格芯),成熟工艺约占总产能的74%。联电、格芯早已退出先进制程的竞争,专注于成熟工艺的扩张;台积电的成熟工艺仍占据产能大头。同时,成熟工艺仍是目前全球产能扩张的主力军。    目前国内晶圆厂扩产聚焦在成熟工艺,主要原因有三:①需求:成熟制程是全球需求最大,也是造成“缺芯”的主要芯片,更是电动汽车、智能家电的芯片主力军,成熟制程能覆盖除智能手机以外的绝大多数应用场景。    ②供给:在光刻机方面,美国芯片法案对中国芯片制造的重点在刚需高端EUV 光刻机的先进制程,即14nm 及以下的fab、18nm 的DRAM、128nm 的NAND。而目前成熟制程应用的DUV 光刻机由日本、欧洲掌握,美国的影响力有限。其他设备方面,北方华创、中微、盛美、拓荆、华海清科、芯源微、万业、精测等国内半导体设备厂商的产品满足成熟工艺的标准,产品管线覆盖除光刻机外的所有领域,产品性能得到持续验证,半导体设备国产化率不断提升。    ③成本/工艺:随着先进制程不断演进,制造工艺的研发和生产成本逐代上涨,高涨的技术难度和成本高筑进入壁垒。根据Semi engingeering 统计,28nm 节点上芯片设计成本约为5130 万美元,16nm/7nm/5nm 攀升至1 亿/2.97 亿/5.42 亿美元。    结论:成熟工艺作为芯片需求的主力节点,并且在CHIPLET 异构集成的大潮下,部分先进工艺可以用成熟工艺+先进封装来实现,另外由于目前国产设备材料的技术发展阶段的条件约束,且我国的成熟工艺产能仍大面积依靠进口,后续国内的扩产主力就是基于国产可控技术的成熟工艺。    看好:国产前道核心工艺设备、国产先进封测工艺设备、国产半导体材料、国产半导体零部件、国产EDA 和其他工业配套软件。    风险提示:中美贸易冲突加剧;终端需求疲软;晶圆厂扩产不及预期。



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